Feedback op: reviews: Extreem-ultravioletlithografie - Zin en onzin van euv-chipproductie
@willemdemoor
Op pagina 3 zeg je dat de kleinste afstand tussen lijntjes op de wafer, ofwel de pitch 38 nm is. Dat is niet waar. De resolutie die wordt bedoeld met een k1 van 0,27 is de half-pitch, ofwel de helft van de afstand tussen twee lijntjes. De kleinste afstand tussen twee lijntjes is dus 2*38=76. Het is misschien leuk om te zeggen dat de kleinste theoretisch mogelijk k1 0,25 is. Fundamenteel kan je niet kleiner dan dit.
Dit staat kort hier uitgelegd: http://www.lithoguru.com/scientist/CHE323/Lecture57.pdf
Voor meer info wil ik echt zijn boek aanraden, hoewel dat wel een zware pil is.
Op pagina 4, derde alinea zeg je dat er fotoresist op het masker zit, volgens mij bedoel je hier wafer.
Op pagina 5, derde alinea noem je de NXE:5400. Ik denk dat je de EXE:5000 bedoelt.
Op pagina 8 alinea 3 zeg je NXT:3400C, dit moet natuurlijk NXE:3400C zijn.
@willemdemoor
Op pagina 3 zeg je dat de kleinste afstand tussen lijntjes op de wafer, ofwel de pitch 38 nm is. Dat is niet waar. De resolutie die wordt bedoeld met een k1 van 0,27 is de half-pitch, ofwel de helft van de afstand tussen twee lijntjes. De kleinste afstand tussen twee lijntjes is dus 2*38=76. Het is misschien leuk om te zeggen dat de kleinste theoretisch mogelijk k1 0,25 is. Fundamenteel kan je niet kleiner dan dit.
Dit staat kort hier uitgelegd: http://www.lithoguru.com/scientist/CHE323/Lecture57.pdf
Voor meer info wil ik echt zijn boek aanraden, hoewel dat wel een zware pil is.
Op pagina 4, derde alinea zeg je dat er fotoresist op het masker zit, volgens mij bedoel je hier wafer.
Op pagina 5, derde alinea noem je de NXE:5400. Ik denk dat je de EXE:5000 bedoelt.
Op pagina 8 alinea 3 zeg je NXT:3400C, dit moet natuurlijk NXE:3400C zijn.
[ Voor 21% gewijzigd door Blokmeister op 03-09-2019 07:24 ]