nieuws: Samsung begint met massaproductie van mram
@Koekiemonsterr
@Koekiemonsterr
Dat is wel een erg kromme beschrijving van FDSOI. Wat je hebt is dat over de hele wafer een laagje oxide is aangebracht, waarbij de transistoren (en meeste andere onderdelen) geisoleerd zijn van de rest van de wafer. FDSOI gebruikt een erg dunne laag, dus het is ook geen enorme isolatie, maar voldoende voor wat ze nodig hebben. Het effect is uiteindelijk dat alle transistoren op een laagje oxide liggen. Zie bijvoorbeeld plaatje van ST: https://www.st.com/conten...---technology/FD-SOI.html (die hebben het ontwikkelt, Samsung heeft licensie van hun erop).Het 28nm-fully-depleted silicon-on-insulator-procedé is een volwassen productieprocedé voor chips waarbij een extra laagje oxide over elk geleidend element wordt aangebracht, zodat alle elektronenbanen van elkaar geïsoleerd zijn.